個展名稱 對質-古勒勒創作展
展出地點 高雄市立文化中心至真堂三館
展覽期間 2010/06/19 ~ 2010/06/30
「對質」像是嚴肅的話題，在人的生命中若是真用心在走這一趟，必然有許許多多的深刻印象在記憶裡，甚至在每個腳步裡都會留下清楚的痕跡。
面對我的創作然而如此，常與自己對話，反覆思考無從整理的某種亂象、糾結、矛盾於某個空間，又把自己推向那邊緣的界點上，看似危機又似安全，又介於發生與不發生的狀態裡，慣性的釋放在作品裡面。
有人常說我繃得太緊，也有人說我懶散或許兩者都有，在這兩點之間擺盪的型態，常有這兩種極端現象產生在我思緒裡，或許在我創作生命裡含著自我、當代、現代、傳統意識等…這些存在而感覺上有些尷尬及矛盾。
當然這些是當下解不開的，因為正發生的是現在進行式，在我作品裡或許無法表現的淋漓盡致，但是我想如果更多人去思考我相同的話題，也許能產生更多的元素及答案。
其實“對質”在我作品展覽裡並不是“強調”的重點，而是我與作品、人、族群、傳統及寬廣的領域，相互對應，相互詢問探討。
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